一種低折射率全介質平面透鏡的制作方法與流程
發(fā)布時間:
2021-03-12
背景技術：
在幾何光學框架下，傳統(tǒng)光學成像透鏡受到嚴格幾何關系限制，需要依賴透鏡表面形狀和天然的光學材料來實現(xiàn)折反射成像，導致光學透鏡設計自由度低、體積質量大，不利于光電子技術及應用的集成化、輕量化和微型化發(fā)展需求。隨著納米制備技術的發(fā)展，光學成像技術則再次迎來了新的飛躍。光學超構表面能夠實現(xiàn)納米尺度下的精準光場調控，包括波長、振幅、相位、偏振等等。與傳統(tǒng)光學透鏡相比，由納米結構組成的平面透鏡，結合了傳統(tǒng)光學成像技術與現(xiàn)代光學超材料技術，具有調控自由度高、光學特性豐富、輕量化和集成化程度高等明顯的優(yōu)勢。
雖然借由微納技術，光學平面透鏡能具有重量輕、厚度極薄等特點，但其所使用的材料大多為金屬或高折射率介質材料，如金和硅，所適用波長集中在近紅外波段，對可見光吸收相當大，可見光區(qū)域透過率低。
技術實現(xiàn)要素：
本發(fā)明為克服上述現(xiàn)有技術由微納技術制得的光學平面透鏡使用的材料大多為金屬或高折射率介質材料，對可見光吸收相當大，可見光區(qū)域透過率低的技術問題，提供一種低折射率全介質平面透鏡的制作方法。
為解決上述技術問題，本發(fā)明的技術方案如下：
一種低折射率全介質平面透鏡的制作方法，包括以下步驟：
S1：在由折射率不小于2.5的低折射率介質柱狀結構構成低折射率全介質材料中選擇介質襯底材料、透鏡結構材料；
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